最新材料現代研究方法

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　　習題集-材料現代研究方法

　　第一章 X射線(xiàn)衍射分析

　　1、什么是X射線(xiàn)？什么是特征X射線(xiàn)（標識X射線(xiàn)）譜？特征X射線(xiàn)可用于對材料進(jìn)行哪兩方面的分析？

　　X射線(xiàn)與可見(jiàn)光一樣，也是電磁波，其波長(cháng)范圍在0.001nm~100nm之間；

　　在X射線(xiàn)譜中，有若干條特定波長(cháng)的譜線(xiàn)，這些譜線(xiàn)只有當管電壓超過(guò)一定的數值時(shí)才會(huì )產(chǎn)生，而這種譜線(xiàn)的波長(cháng)與管電壓、管電流等工作條件無(wú)關(guān)，只決定于陽(yáng)極材料，不同元素制成的陽(yáng)極材料發(fā)出不同波長(cháng)的譜線(xiàn)，因此稱(chēng)之為特征X射線(xiàn)譜或標識X射線(xiàn)譜。 特征X射線(xiàn)譜—元素分析——電子探針X射線(xiàn)顯微分析的依據。

　　2、根據波爾的原子結構殼層模型，闡述K系特征X射線(xiàn)的產(chǎn)生（畫(huà)圖說(shuō)明）。

　　3、推導莫塞來(lái)定律。

　　4、什么是X射線(xiàn)強度？

　　X射線(xiàn)作為一種電磁波，在其傳播過(guò)程中是攜帶著(zhù)一定的能量的，多帶能量的多少，即表示其強弱的程度。IcE02 8

　　5、X射線(xiàn)衍射分析在無(wú)機非金屬材料研究中有哪些應用？

　�。�1）物相分析：定性、定量（2）結構分析：a、b、c、α、β、γ、d（3）單晶分析：對稱(chēng)性、晶面取向—晶體加工、籽晶加工（4）測定相圖、固溶度（5）測定晶粒大小、應力、應變等情況

　　6、X射線(xiàn)管中焦點(diǎn)的形狀分為哪兩種各適用于什么分析方法？

　　點(diǎn)焦點(diǎn)，照相法；線(xiàn)焦點(diǎn)，衍射儀法。

　　7、目前常用的X射線(xiàn)管有哪兩種？

　　封閉式X射線(xiàn)管，旋轉陽(yáng)極X射線(xiàn)管。

　　8、元素對X射線(xiàn)的吸收限？簡(jiǎn)述元素X射線(xiàn)吸收限的形成機理。

　　9、單色X射線(xiàn)采用的陽(yáng)極靶材料的哪種特征X射線(xiàn)、濾波片材料的原子序數與陽(yáng)極靶材料的原子序數關(guān)系如何？濾波片吸收限λk與陽(yáng)極靶材料的特征X射線(xiàn)波長(cháng)是什么關(guān)系？ 采用Kα射線(xiàn)；濾波片材料的原子序數一般比X射線(xiàn)管把材料的原子序數小1或2

　　10、Kα是由那兩條X射線(xiàn)合成的？怎樣合成的？

　　11、X射線(xiàn)與物質(zhì)相互作用時(shí)，產(chǎn)生哪兩種散射？各有什么特點(diǎn)？哪種散射適用于X射線(xiàn)衍射分析？

　　相干散射，非相干散射。相干散射：不改變波長(cháng)；非相干散射：改變波長(cháng)。相干衍射

　　12、什么叫X射線(xiàn)的光電效應？什么叫熒光X射線(xiàn)？什么叫俄歇電子？

　�。�1）光電效應：當X射線(xiàn)波長(cháng)足夠短時(shí)，X射線(xiàn)光子的能量就足夠大，能把原子中處于某一能級的電子打出來(lái)，而它本身則被吸收，它的能量就傳給該電子，使之成為具有能量的光電子，并使原子處于高能的激發(fā)態(tài)。這種過(guò)程就稱(chēng)為光電吸收或光電效應。

　�。�2）熒光X射線(xiàn)：因為光電吸收后，原子處于高能激發(fā)態(tài)，內層出現了空位，外層電子往此躍遷，就會(huì )產(chǎn)生標識X射線(xiàn)，這種由X射線(xiàn)激發(fā)出的X射線(xiàn)稱(chēng)為熒光X射線(xiàn)。

　�。�3）俄歇電子：當外層電子躍遷到內層空位時(shí)，其多余的能量傳遞給其他外層的電子，使之脫離原子，這樣的電子稱(chēng)為俄歇電子。

　　13、X射線(xiàn)衍射分析的基本原理？

　　X射線(xiàn)照射物體時(shí)，產(chǎn)生相干散射與非相干散，由于相干散射產(chǎn)生的次級X射線(xiàn)具有相同的波長(cháng)，如果散射物質(zhì)內的原子或分子排列具有周期性（晶體物質(zhì)）則會(huì )發(fā)生相互加強的干涉現象，這就是X射線(xiàn)衍射分析的基本原理。

　　14、寫(xiě)出布拉格方程，說(shuō)明其含義。什么是布拉格定律？

　　X射線(xiàn)的幾何條件是d、θ、必須滿(mǎn)足布拉格公式。其數學(xué)表達式為：2dsin

　　其中d是晶面間距，θ是布拉格角，即入射線(xiàn)與晶面間的交角。2θ是衍射角。是入射X射線(xiàn)的波長(cháng)。

　　布拉格方程表明，用波長(cháng)的X射線(xiàn)照射晶面間距為d的晶體時(shí)，在2dsinn方向產(chǎn)生衍射。對于一定波長(cháng)的X射線(xiàn)而言，晶體中能產(chǎn)生衍射的晶面數是有限的，即d2得晶面才能產(chǎn)生衍射。

　　布拉格定律：布拉格方程和光學(xué)反射定律加在一起就是布拉格定律。

　　15、什么叫布拉格角？什么叫衍射角？

　�。�1）布拉格角：入射線(xiàn)與晶面間的交角θ。（2）衍射角：入射線(xiàn)和衍射線(xiàn)之間的夾角2θ。

　　16、多重性因子？

　　等同晶面對衍射強度的影響。在粉末衍射中，不同的晶體中屬于同一晶形的晶面間距相等，因此衍射角也相等，衍射線(xiàn)都重疊在同一衍射圓環(huán)上，這樣某一衍射線(xiàn)（HKL）的強度將正比于該晶形中的不同晶面數，即為多重性因數。

　　17、X射線(xiàn)衍射研究方法有哪幾種？各自的實(shí)驗條件是什么？各研究方法有什么用途？

　�。�1）勞厄法：1、主要測定晶體的取向2、觀(guān)測晶體的對稱(chēng)性，鑒定是否單晶3、粗略觀(guān)測警惕的完整性（2）轉晶法：1、測定單晶體試樣的晶胞常數2、觀(guān)測晶體的系統消光規律，以確定警惕的空間群（3）衍射儀法、粉末照相法：1、物相分析，定性分析、定量分析2、測定晶體結構，晶格常數3、晶粒大小，應力狀態(tài)

　　18、透射勞厄法、背射勞厄法的勞厄圖各有什么特征？

　　透射勞厄圖：斑點(diǎn)分布呈一系列通過(guò)底片中心的橢圓或雙曲線(xiàn)。背射勞厄圖：斑點(diǎn)分布呈一系列雙曲線(xiàn)和直線(xiàn)。

　　19、轉晶法衍射花樣特征？

　　層線(xiàn)：衍射斑點(diǎn)分布在一系列平行直線(xiàn)上。零層線(xiàn)：通過(guò)入射斑點(diǎn)的層線(xiàn)。正負第一，第二層線(xiàn)：對零層線(xiàn)對稱(chēng)

　　20、粉末照相法中應用最廣的方法是什么方法？其衍射照片特征？根據照片如何確定2θ？ 徳拜法；德拜衍射圖：長(cháng)條形底片上的一系列圓弧。設：R——照片半徑

　　某晶面族（hkl）產(chǎn)生的衍射線(xiàn)與底片交于pp 兩點(diǎn)，從圖中可知

　　SR*4

　　S4R 21、什么是衍射儀法？該法為什么能廣泛應用？它有什么用途？

　�。�1）衍射儀法：用單色X射線(xiàn)照射多晶或轉動(dòng)的單晶試樣，用探測器和探角儀探測衍射線(xiàn)的強度位置，并將它們轉變?yōu)殡娦盘�，然后進(jìn)行自動(dòng)記錄或用計算機進(jìn)行自動(dòng)分析處理。

　�。�2）由于衍射儀法具有測量精度高、數據分析處理能力強等特點(diǎn)，所以才被廣泛應用。

　�。�3）衍射儀法應用：X射線(xiàn)衍射分析的所有應用，物相分析，結構分析，單晶分析，測定相圖、固溶度，測定晶粒大小應力應變等情況。

　　22、粉末衍射儀核心部件是什么？該部件包括那些部分？

　　測角儀是核心部件。測角儀包括兩個(gè)同軸轉盤(pán)：小轉盤(pán)——中心樣品臺H，大轉盤(pán)——X射線(xiàn)源S、探測器D

　　A．大小轉盤(pán)均可繞它們的共同軸線(xiàn)O轉動(dòng)，軸線(xiàn)O——衍射儀軸。

　　B．X射線(xiàn)源S與探測器前端的接收狹縫RS都處在以O圓心的大轉盤(pán)圓上——衍射儀圓（R=185mm）。

　　23、衍射儀的探測器有哪幾種？并闡述各自的原理？

　�。ù鸢覆淮_定，貌似不對）探測器以一定角速度在選定角度范圍連續掃描 -→ 計數率儀 -→ 繪 I-2θ曲線(xiàn)；探測器以一定步長(cháng)移動(dòng) →每點(diǎn)停留一定時(shí)間定標器逐點(diǎn)測量衍射峰強度 -→ X-Y 數據

　　24、掃描儀的工作方式有哪兩種？各有什么優(yōu)缺點(diǎn)？

　�。�1）連續掃描：探測器以一定的角速度進(jìn)行連續掃描。

　　優(yōu)點(diǎn)：快速，方便。缺點(diǎn)：峰位滯后，分辨力減低，線(xiàn)型畸變。

　�。�2）步進(jìn)掃描：讓探測器以一定的角度間隔逐步移動(dòng)。

　　優(yōu)點(diǎn)：無(wú)滯后效應，平滑效應，峰位準，分辨力好。缺點(diǎn)：速度慢、時(shí)間長(cháng)。

　　25、衍射線(xiàn)峰位的確定方法有哪幾種？各適用于什么情況？

　�。�1）峰頂法：使用與線(xiàn)性尖銳的情況。（2）切線(xiàn)法：適用于線(xiàn)性頂部平坦，兩側直線(xiàn)性較好的情況。（3）半高寬中點(diǎn)法：適用于線(xiàn)性頂部平坦，兩側直線(xiàn)型不好的情況。（4）7/8高度法：使用于有重疊峰的存在，但峰頂能明顯分開(kāi)的情況。（5）中點(diǎn)連線(xiàn)法：適用于最大強度的1/2、3/4、7/8處比較好分辨的情況；（6）拋物線(xiàn)擬合法：適用于衍射峰線(xiàn)形漫散及雙峰難分離的情況（7）重心法：干擾小，重復性好，但此法計算量大，宜配合計算機使用。

　　26、畫(huà)圖說(shuō)明半高寬中點(diǎn)法確定峰位的方法。

　　27、X射線(xiàn)物相分析（定性、定量）的理論依據是什么？

　　定性分析原理：

　　1、通過(guò)衍射線(xiàn)的位置換算出d，確定晶胞的形狀、大��；

　　2、通過(guò)衍射線(xiàn)強度確定晶胞內原子的種類(lèi)、數目、排列方式；

　　3、通過(guò)晶體特有的衍射花樣確定晶體的特有結構

　　4、單相物質(zhì)：將未知物像的衍射花樣與已知物相得衍射花樣相比較。

　　5、多物相得混合物：其衍射圖形為這幾種晶體衍射線(xiàn)的機械疊加。

　　定量分析的原理：根據多相混合物中某一相得衍射強度，隨該相得相對含量的增加而增加，呈現出某種函數關(guān)系。如果確定了該函數關(guān)系就可以用實(shí)驗測得的強度計算出該相得含量。

　　30、為什么說(shuō)d值的數據比相對強度的數據重要？

　　由于吸收的測量誤差等的影響，相對強度的數值往往可以發(fā)生很大的偏差，而d值的誤差一般不會(huì )太大。因此將實(shí)驗數據與卡片上的數據核對時(shí)，d值必須相當符合，一般要到小數點(diǎn)后二位才允許有偏差。

　　31、結合布拉格公式說(shuō)明，為什么說(shuō)低角度區的衍射數據比高角度區的數據重要？

　　由布拉格公式2dsinθ=λ可知，低角度的衍射線(xiàn)對應d值較大的晶面。對不同的晶體來(lái)說(shuō)，差別較大，相互重疊的機會(huì )較少，不易互相干擾。但高角度的衍射線(xiàn)對應d值較小的晶面，對不同的晶體來(lái)說(shuō)，晶面間距相近的機會(huì )多，容易混淆。特別是當試樣晶體的完整性較差，晶格扭曲，有內應力或晶格較小時(shí)，往往使高角度線(xiàn)條散漫寬化，甚至無(wú)法測量。

　　32、X射線(xiàn)定量分析的理論依據是什么？

　　定量分析的原理：根據多相混合中某一相的衍射強度隨該相得相對含量增加而增加，呈現出某種函數關(guān)系。如果用實(shí)驗測量或者理論分析等辦法確定了該函數關(guān)系，就可以用實(shí)驗測得的強蘇計算出該相得含量。 33、K值法進(jìn)行定量分析的步驟？K值法為什么又叫基體沖洗法？

　　過(guò)程：1）物相鑒定；2）選擇標樣物相；3）進(jìn)行定標曲線(xiàn)的測定；4）測定試樣中標準物相S的強度或測定按要求制備試樣中的待測物相及標樣S物相制定衍射線(xiàn)強度；5）用所測定的數據，按各自的方法計算出待測物相的質(zhì)量分數。

　　35、寫(xiě)出謝樂(lè )公式，說(shuō)明各參數的含義，并說(shuō)明利用謝樂(lè )公式計算微晶尺寸時(shí)，樣品尺寸的適用范圍和主要注意事項。

　　假若晶體中沒(méi)有不均勻應變的個(gè)晶格缺陷的存在，衍射線(xiàn)寬化完全是由于經(jīng)歷尺寸（或鑲嵌塊尺寸）大小引起的，可以證明有以下關(guān)系：

　　謝樂(lè )公式：DhklK

　　cos

　　Dhkl—垂直于（hkl）面方向的晶粒尺寸（）

　　β—由于晶粒細化引起的衍射峰寬化

　　K—常數，β取衍射峰半高寬β1/2，K=0.89；β取衍射峰積分寬度βi,K=1.00。

　　樣品尺寸：1nm—100nm。

　　注意事項：先用標準試樣測定儀器本身的寬化，進(jìn)行校正；對Kα進(jìn)行雙線(xiàn)分離求得Kα1帶入謝樂(lè )公式；可選取同一方向兩個(gè)衍射面進(jìn)行計算以便比較。

　　第二章 電子顯微分析

　　1、什么是顯微鏡的分辨本領(lǐng)（分辨能力、分辨率），它和那些因素有什么關(guān)系？

　　分辨率（分辨能力、分辨本領(lǐng)）：一個(gè)光學(xué)系統能分開(kāi)兩個(gè)物點(diǎn)的能力，數值上是剛能（清楚地）分開(kāi)兩個(gè)物點(diǎn)間的最小距離。

　　阿貝公式：r0.61nm） nsin

　　r-分辨率，與λ成正比；r越小，分辨率越高

　　2、什么是電子顯微分析？電子顯微分析的特點(diǎn)是什么？

　　電子顯微分析是利用聚焦電子束與試樣物質(zhì)相互作用產(chǎn)生的各種物理信號，分析試樣物質(zhì)的微區形貌、顯微結構、晶體結構和化學(xué)組成。

　　特點(diǎn)：（1）高分辨率：0.2~0.3nm（線(xiàn)分辨率：0.104~0.14）；（2）高放大倍數：15倍~100萬(wàn)倍（200萬(wàn)倍），且連續可調；（3）是一種微區、選區分析方法：能進(jìn)行nm尺度的晶體結構、化學(xué)組成分析；（4）多功能、綜合性分析：形貌、結構（顯微結構、晶體結構）、成份。

　　3、電子的波性是什么？電子波長(cháng)由什么決定？

　　運動(dòng)著(zhù)的微觀(guān)粒子（如中子、電子、離子等）也具有波粒二象性假說(shuō)——運動(dòng)著(zhù)的微觀(guān)粒子也伴隨著(zhù)一個(gè)波——物質(zhì)波或德布羅意波。

　　電子的波長(cháng)λ與加速電壓V的平方根成反比。

　　4、什么是靜電透鏡、磁透鏡？

　�。�1）靜電透鏡：一定形狀的等電位曲面族可使電子束聚焦成像，產(chǎn)生這種旋轉對稱(chēng)等電位曲面族的電極裝置。（2）磁透鏡：旋轉對稱(chēng)磁場(chǎng)對電子束有聚焦成像用，產(chǎn)生這種旋轉對稱(chēng)磁場(chǎng)的線(xiàn)圈裝置。

　　5、靜電透鏡和磁透鏡各有什么特點(diǎn)？各用于電鏡中的什么位置？

　　特點(diǎn)：靜電透鏡總是會(huì )聚透鏡；強電場(chǎng)導致鏡筒內擊穿和弧光放電。因此電場(chǎng)強度不能太高，靜電透鏡焦距較長(cháng)，不能很好的矯正球差。磁透鏡與靜電透鏡比，焦距短。

　　位置：靜電透鏡用于電子槍中使電子束會(huì )聚成形；磁透鏡在電子顯微鏡中用于使電子束聚焦、成像。

　　6、旋轉對稱(chēng)磁場(chǎng)使電子束清晰成像的前提條件是什么？

　�。�1）磁場(chǎng)分布是嚴格軸對稱(chēng)的（2）滿(mǎn)足旁軸條件（3）電子波的波長(cháng)相同

　　7、什么是電磁透鏡的像差？電磁透鏡的像差有哪幾種？

　　實(shí)際的電磁透鏡不能完全滿(mǎn)足(1)磁場(chǎng)分布是嚴格軸對稱(chēng)的（2）滿(mǎn)足旁軸條件（3）電子波的波長(cháng)相同。因此從物面上一點(diǎn)散射出的電子束，不一定全部徽劇在一點(diǎn)，或者物面上的各點(diǎn)并不按比例成像于同一平面內，結果圖像模糊不清，或與原物的幾何形狀不完全相似，這種現象稱(chēng)為像差。

　　電磁透鏡的像差有球差、色差、軸上像散、畸變

　　8、電磁透鏡的場(chǎng)深、焦深？

　　場(chǎng)深：不影響分辨本領(lǐng)的前提下，物平面可沿透鏡軸移動(dòng)的距離。

　　焦深：在不影響透鏡成像分辨本領(lǐng)的前提下，像平面可沿透鏡軸移動(dòng)的距離。

　　9、原子核對電子的彈性散射和非彈性散射？

　　彈性散射：入射電子與原子核發(fā)生彈性碰撞時(shí): m原子核﹥﹥m電子，電子只改變方向，不改變能量。彈性散射的電子能量等于或者接近于入射電子能量E0。

　　非彈性散射：入射電子被庫侖電勢制動(dòng)而減速。入射電子損失的能量轉變?yōu)閄射線(xiàn)，電子即改變方向，也損失能量。

　　10、電子的彈性散射有什么特點(diǎn)？用于什么分析？

　　特點(diǎn)：只改變方向，不改變能量。用于分析分析形貌特征；顯示原子序數襯度，定性地進(jìn)行成分分析。

　　11、背散射電子和透射電子？

　　背散射電子：電子進(jìn)入試樣后受到原子的彈性散射和非彈性散射，有一部分電子的總散射角大于90度，重新從試樣表面逸出，稱(chēng)為背散射電子。

　　透射電子：當試樣厚度小于入射電子的穿透深度時(shí)，入射電子將穿透試樣從另一表面射出，稱(chēng)為透射電子。

　　12、簡(jiǎn)述透射電鏡的工作原理。

　　1、聚焦電子束作照明光源：電子槍產(chǎn)生的電子束，經(jīng)1-2級聚光鏡會(huì )聚后，均勻地照射試樣上的某一待觀(guān)察的微小區域上。

　　2、入射電子與試樣物質(zhì)相互作用，由于試樣很薄，絕大部分電子穿透試樣，其強度分布與試樣的形貌、組成、結構一一對應。

　　3、透射出的電子經(jīng)一系列透鏡放大投射到熒光屏上。

　　4、熒光屏把電子強度分布轉變?yōu)榭梢?jiàn)光強度分布的圖像。

　　13、簡(jiǎn)述透射電鏡的特點(diǎn)。

　　特點(diǎn)：高分辨率：點(diǎn)分辨率：r=0.23～0.25nm，線(xiàn)分辨率：r=0.104～0.14nm

　　高放大倍數：100倍～80萬(wàn)倍，連續可調。電子衍射：結構分析。

　　14、透射電子顯微鏡的結構分為那幾個(gè)系統？

　　光學(xué)成像系統、真空系統、電氣系統

　　15、透射電鏡光學(xué)成像系統的結構分為哪幾部分？

　　照明系統、成像系統、圖像記錄觀(guān)察系統

　　16、透射電鏡的性能指標包括哪些方面？

　　1.分辨率：點(diǎn)分辨率：0.23～0.25nm；線(xiàn)分辨率：0.104～0.14nm。

　　2.放大倍數：100倍～80萬(wàn)倍。

　　3.加速電壓:普通電鏡：100～200KV

　　17、透射電鏡對樣品有什么要求？透射電鏡粉末樣品和薄膜樣品如何制備？

　　要求：（1）厚度：100~200納米（2）含水，其它易揮發(fā)物質(zhì)先處理（3）化學(xué)性質(zhì)穩定，并有一定的機械強度（4）非常清潔

　　粉末樣品的制備：用超聲波分散器將粉末溶液分散成懸浮液。用滴管滴幾滴在覆蓋有碳加強火膠棉支持膜的電鏡銅網(wǎng)上，待其干燥后，在蒸上一層碳膜，即成為電鏡觀(guān)察所用的粉末樣品。

　　薄膜樣品的制備：超薄切片——生物試樣；電解拋光——金屬材料；化學(xué)拋光——半導體、單晶體、氧化物等；離子轟擊——無(wú)機非金屬材料。

　　18、說(shuō)明電子顯微像的理論叫什么理論？透射電鏡襯度有哪幾種？各適用于什么材料？

　�。�1）電子顯微像的理論：襯度理論。襯度——電子圖像的光強度差別

　�。�2）透射電鏡的襯度包括質(zhì)厚襯度、衍射襯度和相位襯度

　�。�3）質(zhì)厚襯度：適用于非晶體薄膜和復形膜試樣所成的圖像解釋?zhuān)?/p>

　　衍射襯度和相位襯度：適用于晶體薄膜試樣所成圖像的解釋。

　　19、簡(jiǎn)述電子衍射的特點(diǎn)。

　　波長(cháng)短，受物質(zhì)的散射強。單晶的電子衍射譜和晶體倒易點(diǎn)陣的二維截面完全相似。衍射束強度有時(shí)幾乎與透射束相當，因此就有必要考慮它們之間的相互作用，使電子衍射花樣分析，特別是強度分析變得復雜，不能象X射線(xiàn)那樣從測量強度來(lái)廣泛地測定晶體結構；散射強度高，電子穿透能力有限，比較適用于研究微晶、表面和薄膜晶體。

　　20、試比較單晶和多晶的電子衍射譜，并說(shuō)明多晶電子衍射譜中環(huán)形花樣形成的原因。 單晶的衍射譜：規則的衍射斑點(diǎn)；

　　多晶的衍射譜：同心圓環(huán)。形成原因：多晶體由于晶粒數目極大且晶面取向在空間任意分布，倒易點(diǎn)陣將變成倒易球。倒易球與厄瓦爾德球相交后在照相底片上的投影將成為一個(gè)個(gè)同心圓。

　　21、透射電鏡分析的應用。用透射電鏡能否觀(guān)察形貌？怎樣處理？

　�。�1）形貌觀(guān)察：顆粒形貌觀(guān)察；表面形貌觀(guān)察；

　�。�2）晶界、位錯及其它缺陷的觀(guān)察；

　�。�3）物相分析：選區、微區分析；與形貌觀(guān)察結合，得到物相大小、形態(tài)和分布信息；

　�。�4）晶體結構和取向分析。

　　可以觀(guān)察形貌；常用復型方法：碳一級復型；塑料-碳二級復型；萃取復型。

　　22、掃描電鏡分析有哪些特點(diǎn)？

　�。�1）10-30mm的試樣，制樣簡(jiǎn)單；

　�。�2）場(chǎng)深大、適于粗糙表面和斷口，圖像富有立體感和真實(shí)感；

　�。�3）放大倍率變化范圍大 15倍～20萬(wàn)倍；

　�。�4）分辨率：3-6nm；

　�。�5）可用電子學(xué)方法、控制和改善圖像質(zhì)量；

　�。�6）可多功能分析（微區成分、陰極熒光圖像和陰極熒光光譜、晶體管或集成電路的PN結及缺陷）；

　�。�7）可動(dòng)態(tài)分析（加熱、冷卻、拉伸等）；

　　23、什么是掃描電鏡的放大倍數？

　　M=L/l

　　L:顯像管電子束在熒光屏上掃描幅度

　　l:電鏡中電子束在試樣上掃描幅度

　　M=15~20萬(wàn)倍，最大可達10~30萬(wàn)倍

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現代企業(yè)管理方法03-13

現代軌道交通的關(guān)鍵材料07-03

《心理學(xué)研究方法》07-21

辦理失業(yè)保險的材料與方法07-13

我國現代農業(yè)建設的模式研究論文07-03

現代企業(yè)管理模式研究論文07-04